Page 234 - 6583

Виконання умови (10.16) відповідає розташуванню
вимірювальних каналів за простяганням і падінню осей
квазідвовимірних структур нижнього поверху. У цьому разі у
формулі (10.15) коефіцієнти  і , рівні відповідно
відношенню додаткових імпедансів до основних, у першому і
другому стовпцях матриці обчислюються як
2
 = (Z хх*Z ух + Z ххZ ух*)/2[Z ух] ,
2
 = (Z уу*Z ху + Z ууZ ху*)/2[Z ху] ,
де зірочка означає комплексно сполучені числа.
У разі двомірних структур у верхній і нижній частинах
розрізу коефіцієнти викривлення Р уу() і Р уу() (індекси  та 
відповідають коефіцієнтам лівого і правого стовпців)
визначаються як
Р уу( = –ρ/(2((cos2Δθ – 1) – sinΔθ)),
і Р уу() = –/(2((cos2Δθ + 1) – sinΔθ)), (10.17)

де Δθ – експериментально встановлений кут між
напрямками осей локальних (верхній поверх) і регіональних
структур (нижній поверх). Його визначають у разі (10.16) з
виразу:
tg2Δθ = 2γ/ /(γ – ). (10.18)
Для двовимірних структур Р уу() = Р уу().
Якщо вимірювальні лінії розташовані вздовж
локальних структур верхнього поверху, то згідно з (10.14)
матриця імпедансу в напрямку θ = θ 1, набуває вигляду:

  1 P Z xx  3 0 sin2  , 1 P xx  Z 0 4  Z 3 0 cos2   
 Z   1    ,  (10.19)
 1 P  Z 0  Z 0 cos2   , 1 P Z  0 sin2  
 yy 4 3 yy 3 
0
0
0
0
де z  z  z 0 , z  z  z 0 .
3 xy xx xy yx
Звідси випливає, що додаткові імпеданси Z хх і Z уу
пов'язані між собою через дійсний коефіцієнт
α = (1+Р хх)/(1+Р уу). Знайшовши кут, за якого виконуються
умови (10.19), можна оцінити Р хх і Р уу.

234