Page 120 - 4627
P. 120

основні показники, ніж розглянуті вище n—р—n-транзистори.
                            Часто  це  зв'язано  з  тим,  що  рухливість  дірок  як  основних
                            носіїв  заряду  в  транзисторах  р—n—р-типу  нижча,  ніж
                            рухливість  електронів  як  основних  носіїв  заряду  в
                            транзисторах  n—р—n-типу.  Крім  того,  є  причина  кон-
                            структивно-технологічного характеру. Як видно із структури
                            інтегрального  біполярного  транзистора  р—n—р-типу,  що
                            показана  на  рис.  2.7,  а,  роль  бази  в  ньому  відіграє
                            епітаксійний  острівець  з  провідністю  n-типу  (колекторна
                            область для інтегрального транзистора n—p—n-типу, рис. 2.5,
                            а). Товщина базової області в цьому випадку не менше 5 мкм і
                            коефіцієнт підсилення струму бази h 21 не перевищує кількох
                            десятків.  Для  інтегральних  транзисторів  n—р—n-типу
                            коефіцієнт  підсилення  струму  бази  становить  100  —  200  з
                            розкидом ±30 %. Колекторна і емітерна області провідності p-
                            типу  (рис.  2.7,  а)  виготовляються  одночасно  з  базовою
                            областю транзистора n—р—n-типу (рис. 2,5, а). На рис. 2.7, б
                            показана топологія інтегрального р—n— р -транзистора.
                                Вольт-амперні  характеристики  і  параметри  інтегральних
                            транзисторів     і   дискретних     біполярних      транзисторів
                            аналогічні, але відрізняються лише числовими значеннями.
                                Основними низькочастотними параметрами інтегральних
                            транзисторів  є  коефіцієнт  підсилення  струму  бази  /г;іг,  про
                            який  згадувалось  чище,  вхідний  опір  R BX=h 11E  і  напруга  на
                            ділянці база—емітер U (BE).
                                Вхідний опір визначається опором об'єму бази r B = 50 ...
                            150 0м і опором емітерного переходу, перечисленим до кола
                            бази, тобто
                                                                     -3
                                R вх = r B+ kT/qI B = (50 ...150) +26 10 / І в,
                                де k — стала Больцмана; Т — абсолютна температура; q
                                                                              3
                            — заряд електрона при Т = 300 K; kT/q = 2610  В,I в — струм
                            бази.  Напруга  U BE,  при  якій  струм  колектора  різко
                            підвищується  від  нульового  значення,  для  кремнієвих
                            інтегральних транзисторів дорівнює 0,5—0,7 В.
                                До  високочастотних  параметрів  транзистора  відносяться
                            гранична  частота  f r,  на  якій  спрямлена  залежність  h 21E(f)
                            зменшується до одиниці, і ємність колекторного переходу C C.
                            Гранична  частота  інтегральних  біполярних  транзисторів
                            суттєво залежить від  їх площі  і лежить в межах 250 ... 1000
                            МГц. Ємність проміжку колектор—база С CB=0,2 ... ... 2 пФ. На

















                                                           120
   115   116   117   118   119   120   121   122   123   124   125