Page 35 - 4687

ня. Виріб виконує роль катода. Анод виготовлений з міді з
інтенсивним водяним охоложденням. Орієнтовний режим ду-
гового очищення імпульсними розрядами складає: I д = 10…30
А; U д = 15…20 В; τ = 10…15 с.
Підвищена шорсткість поверхні не завжди придатна для
нанесення вакуумних конденсаційних покриттів, особливо
тонких плівок. Проте для порошкових газотермічних
покриттів така поверхня найбільш прийнятна. На практиці
підготовка поверхні дуговим розрядом була використана при
плазмовому напиленні порошкових покриттів в камері з
нестабільним (динамічним) вакуумом. При цьому тиск в
камері підтримувався на рівні 100…500 Па. На рисунку 1.6 в
першому наближенні показаний вплив електричного розряду
на міру очищення поверхні.
Експериментальними дослідженнями встановлено, що
тліючі розряди здатні видаляти значно менші кількості жиро-
вих забруднень у порівнянні з дуговим очищенням. Те ж саме
стосується очищення від оксидних плівок.
У опублікованих джерелах трапляються відомості про
застосування для очищення поверхонь під покриття
високочастотних розрядів - індукційних (ВЧІ) і емнісних
(ВЧЄ) .

34