Page 114 - 4302
P. 114
- велика кількість отруйних виділень, що утворюються при
електролізі;
- товщина відкладення покриття практично не перевищує
0,3 мм;
- гладкий хром погано утримує змащувальне масло.
Електролітичні осадження хрому відрізняються від інших галь-
ванічних процесів як за складом електроліту, так і за умовами про-
тікання процесу. Ці особливості полягають у наступному: як елект-
роліт використовують хромову кислоту (водний розчин хромового
ангідриду СrO 3) із невеликими добавками сірчаної кислоти (Н 2SО 4),
а не розчини їх солей, як при осадженні інших металів. Концентра-
ція хромового ангідриду в електроліті може коливатися в широких
межах - від 100 до 400 г/л, а сірчаної кислоти - від 1 до 4 г/л (при-
чому співвідношення СrO 3:Н 2S0 4 повинне знаходитися в межах
90:120). У цьому випадку вихід по струму хрому найбільший і про-
цес йде стійко.
Кількість тривалентного хрому в ванні повинна бути 3-4 % вмі-
сту хромового ангідриду; електроліз в хромокислих електролітах
ведеться з нерозчинними свинцево-сурмистими анодами.
Застосування розчинних хромових анодів неможливе з огляду
на те, що:
- анодний вихід по струму хрому в 6-8 разів вищий від катод-
ного;
- процес осадження хрому проводиться при високій катодній
2
щільності струму D к = 20-30 А/дм ). При підвищенні катодної щіль-
ності струму збільшуються твердість осаду і крихкість шару, а при
знижених значеннях осади виходять пластичними;
- зворотна залежність виходу по струму від температури елект-
роліту і його концентрації. З підвищенням концентрації електроліту
вихід по струму різко знижується, тоді як у більшості інших гальва-
нічних процесів вихід по струму підвищується;
- хромові ванни мають погану розсіюючу здатність, тобто тов-
щина осадів виявляється нерівномірною залежно від положення
анода по відношенню до деталі (катоду). На найближчих до анода
ділянках формується більша товщина шару, а на віддалених - мен-
ша;
114