Page 184 - 6722
P. 184
суцільні покриття. Зазвичай це досягається переміщенням
деталі щодо каналу установки.
У вибуховій хвилі газ стискається до тиску десятків
атмосфер з температурою декілька тисяч градусів. Не
дивлячись на високі температури, що розвиваються в місці
контакту частинок порошку з підкладкою, деталь не
нагрівається до температури більше 200 °С.
Рівень шуму при роботі детонаційної установки - 140
Дб, що вище за межу допустимого технікою безпеки (80 Дб).
Тому установка поміщається в звуконепроникну камеру і
управляється оператором, розташованим за перегородкою.
Після досягнення детонаційною хвилею відкритого
кінця трубки вона захоплює напилюючі частинки і у вигляді
двофазного потоку (продукти детонації і напилювані
частинки) рухається до мішені. Швидкість потоку на виході
із стовбура складає 875 м/с, матеріал покриття викидається
вибуховою хвилею на оброблювану поверхню з
надзвуковою швидкістю.
У двофазному потоці продукти детонації
нагріваються і прискорюють напилювані частинки, які
можуть плавитися і випаровуватися. Поблизу оброблюваної
підкладки потік газу гальмується і розтікається уздовж
поверхні. Покриття може формуватися з повністю
розплавлених частинок і з суміші розплавленого і
нерозплавленого матеріалів. Висока швидкість у момент
удару і висока температура в зоні взаємодії викликають
приварювання і кристалізацію частинок порошку на
поверхні підкладки.
На відміну від газополуменевого і плазмового методів
детонаційні покриття формуються при вищих швидкостях
частинок і наявності крупніших непроплавлених частинок в
кінці двофазного потоку. Це призводить до ефектів ударного
пресування і абразивної дії потоку на поверхню, внаслідок
чого можливе відділення частинок покриття від підкладки і
збільшення щільності вже сформованого покриття.
Формування першого шару детонаційного покриття
182