Page 77 - 6578
P. 77

пучок отримують за рахунок великої прискорюючої напруги (40-50
                            кВ).  Весь  робочий  об’єм  електронного  мікроскопа  відкачаний  до
                                                 -5
                            високого вакууму (10  Па). Вакуум підтримується протягом всього
                            періоду  його  роботи  і  відсутній  тільки  в  момент  профілактичної
                            чистки і заміни катода.
                                 Електромагнітні  лінзи  (конденсори)  –  обмотки  з  мідного
                            дроту,  які  служать  для  створення  вузького  пучка  електронів.  Як
                            правило  мікроскоп  має  три  конденсорні  лінзи  і  з  їх  допомогою
                            здійснюється фокусування електронного пучка на ділянці поверхні
                            зразка.  Пучок  електронів,  що  проходить  через  конденсор,
                            регулюється його магнітним полем, яке, у свою чергу, залежить від
                            сили  струму  в  обмотці  конденсора.  Отже  робота  по  фокусуванню
                            зображення  полягає  у  зміні  сили  струму,  який  проходить  через
                            конденсори. Переважно, силу струму 2 конденсорів виставляють на
                            певне значення у зоні чутливості, а точне настроювання проводять
                            за рахунок сили струму третього конденсора.
                                 При  попаданні  електронного  пучка  на  поверхню  зразка
                            частина  електронів  відбивається  і  вловлюється  детекторами
                            електронів,  які  представляють  собою  металеві  сітки  під  напругою
                            10-15 кВ. Інша частина електронів залишається у матеріалі  і тому
                            зразок  повинен  обов’язково  бути  заземленим  для  стікання  цих
                            накопичених електронів.
                                 Кількість  відбитих  електронів,  яка  фіксується  детекторами
                            електронів  А  і  Б  (рисунок  10.1),  тобто  різниця  інтенсивності
                            електронних потоків на двох детекторах може бути викликана:
                            1.  Мікрорельєфом поверхні (рисунок 10.2).
                            2.  Різним хімічним складом сусідніх точок поверхні матеріалу.
                            3.  Наявністю різних структурних складових (фаз) матеріалу.
                            4.  Наявністю недосконалостей кристалічної гратки.

                              A                       Б           A                       Б










                                        A = Б                              A → Б
                                 Рисунок 10.2 – Зміна інтенсивності електронних потоків на
                               детекторах електронів у залежності від мікрорельєфу поверхні
                                                            75
   72   73   74   75   76   77   78   79   80   81   82