Page 94 - 4687

Можливості отримання покриттів газофазним осаджен-
ням виключно великі. Це і багато металів, різні неметалеві
сполуки, як однотипні, так і змішані (карбо- нітриди,
оксікарбіди та ін.); покриття змінного складу. Якість
покриттів значною мірою визначається просторовим факто-
ром. Необхідно процес обмежувати поверхнею виробу, що
покривається, утворення компоненту покриття поза поверх-
нею осадження різко знижує показники якості покриттів.
Швидкість осадження газофазних покриттів досить ви-
сока. Наприклад, при відновленні галогенідів воднем вона
сягає 5…65 мкм/хв. Доцільно використовувати різні способи
активації реакційного процесу. На практиці використовують
енергію електричних газових розрядів, особливо тліючих з
утворенням низькотемпературної плазми.

Нанесення конденсаційно-вакуумних покриттів
Конденсаційно-вакуумні покриття (рисунок 1.28) отри-
мують внаслідок конденсації потоку пари, отриманого
різними способами: термічним випаровуванням, вибуховим
випаровуванням-розпиленням і іонним розпиленням
матеріалу покриття. Конденсація відбувається з нейтральних
атомів потоку або їх іонізованого стану. Залежно від способу
отримання потоку пари ступінь іонізації може змінюватися в
широких межах, досягаючи 70 % і більше. У цьому випадку
процес називають вакуумним іонно-плазмовим осадженням.
Процес ведеться в вакуумних камерах. Розрідження, що
-1
-3
становить 10 …10 Па, забезпечує мінімальну кількість за-
лишкових газів, що дає можливість отримати довжину
вільного пробігу частинок у потоці до одного метра і більше.
Крім того, високе розрідження сприяє мінімальному забруд-
ненню покриття залишковими молекулами повітря.
Конденсаційно-вакуумні покриття, що набуло великого по-
ширення в останні 50 років, серйозно потіснили газофазні і
особливо гальванічні покриття. Перш за все, розширилися

93