Page 249 - 4687

чення структурними дефектами; поверхня набуває аномальні
фізико-хімічні властивості, при цьому різко зростає швид-
кість дифузії поверхневих атомів і їх енергія.
Травлення розкриває енергетично стабільні елементи по-
верхні у вигляді терас, граней та ін. Порушення кристалічної
гратки при цьому незначні або взагалі відсутні, що не сприяє
активації поверхні при її очищенні.
Останнім часом поширені способи плазмового напилю-
вання в герметичних камерах при нормальному і зниженому
тиску плазмоутворювального газу, завдяки чому з'являється
можливість остаточного очищення поверхні виробів газовими
електричними розрядами.
Очищення тліючим розрядом проводять при невисокому
розрідженні (100…0,1 Па) із застосуванням бомбардування
поверхні іонів аргону. Прискорені іони здатні зміщувати ато-
ми в кристалічній гратці або вибивати їх, для чого потрібна
енергія іонів Е, що перевищує порогові значення Е п. Величина
Е п залежить від теплофізичних властивостей матеріалу очи-
щувального виробу.
Обробка поверхні прискореними іонами не тільки очи-
щає її, але і в значній мірі активує. Експериментально були
виявлені дислокації на глибині до 0,05 мм. У поверхневих
шарах з'являються вакансії і дислокації. Для очищення тлію-
чим розрядами використовують такі режими процесу: I p =
30…60 МА; U p 1,5…3,0 кВ; час очищення 5…25 с.
Поряд з тліючим для очищення напилюваної поверхні
можуть бути використані дугові розряди, в цьому випадку на
поверхні спостерігаються ерозійні процеси, однак характер
руйнування інший. Сліди від впливу дугового розряду мають
вигляд прилеглих одна до одної лунок з нерівномірним по
поверхні розташуванням. У центрі лунки і біля неї виявляєть-
ся розплавлений матеріал. У зоні термічного впливу спостері-
гається дроблення зерен на субзерна, що містять велику кіль-
кість дислокацій. Це викликане особливою формою існування
248