Page 266 - 4687

кулярно поверхні. Відомо, що кристалічна будова затверділо-
го матеріалу визначається кількістю центрів кристалізації в
об’ємі розплаву і швидкістю росту кристалів. Стан поверхні
впливає на кристалічну будову покриття. Кристаліти, прилеглі
до межі розділу, можуть отримувати свій розвиток на базі зе-
рен матеріалу поверхні, особливо за наявності оплавлених
зерен при формуванні покриттів з розплавленням поверхні
виробів. Термодинамічне зростання кристалів від поверхні
зерен, найбільш вигідне. Процес затвердіння відразу йде зі
зменшенням поверхневої енергії системи. Малі об’єми рідкої
фази і потужний спрямований тепловідвід сприяють переохо-
лодженню розплаву по всій товщині покриття, що створює
умови для утворення виключно великої кількості центрів кри-
сталізації і відповідно отримання дрібних кристалітів.
На базі кристалографічних площин зерен основного
матеріалу формуються так звані епітаксіальні покриття
(плівки). Відбувається це із розплаву шляхом нарощування з
поверхневих зерен з утворенням однорідних монокристалів
(рисунок 3.5, а). Монокристалічні покриття формуються в
процесі орієнтованого зростання монокристала однієї речови-
ни на кристалічній грані іншого (епітаксіальне нарощування).

Рисунок 3.5 – Схема росту кристалітів з розплаву покриття:
а – монокристалічне епітаксіальне покриття;
б – полікристалічне покриття

У шарі за сприятливих умов повністю відтворюється
кристалографічна орієнтація поверхні окремих зерен. Епітак-

265