Page 86 - 4687

фазного покриття. Однак найбільш високі результати досяга-
ються застосуванням просочення розплавами різних складів.
Так, наприклад, для просочення порошкового шару з карбідів
вольфраму (WC + W 2C) при виробництві бурового
інструменту застосовують мідь або легкоплавкі сплави на
нікельхромовие основі.
Розглянутий метод нанесення дозволяє отримувати по-
криття товщиною до декількох міліметрів без застосування
складного обладнання.

Атомарні покриття
Формування покриттів здійснюється з атомарних, моле-
кулярних потоків або їх іонізованих станів (рисунок 1.21).
Поряд з цим у покриття можуть переходити і більші ча-
стки, наприклад кластери. Атомарні покриття наносять осад-
женням у вакуумі, в газоподібних або рідинних середовищах.
Виходячи з цього технологічні процеси нанесення покриттів
поділяють на: хімічні; електрохімічні (гальванічні); газофазні;
конденсаційно-вакуумні.
Формування атомарних покриттів супроводжується
утворенням кристалітів безпосередньо з потоку частинок.
Низькотемпературні умови не дозволяють отримувати
відносно доскональну кристалічну будову. Структура покрит-
тя відрізняється великою кількістю різних дефектів. До суттє-
вих переваг процесів отримання атомарних покриттів слід
віднести можливість осадження шарів малої і надмалої тов-
щини, наприклад у нанометровому діапазоні.

Нанесення хімічних покриттів

Виробництво хімічних покриттів - найбільш просте і до-
ступне. Вироби занурюють у ванну з водним розчином різних
солей. На практиці досить широко застосовуються такі методи
85