Page 216 - 4687

Останнім часом активно розвиваються імпульсні спосо-
би плазмового напилювання покриттів. Для утворення низь-
котемпературної імпульсної плазми використовується елект-
ричний вибух провідників енергією, накопиченою в конденса-
торній батареї, наприклад з фольги або інших матеріалів.
Продукти вибуху утворюють гетерогенний потік плазми з
найдрібнішими частинками матеріалу фольги. При укладанні
на фольгу порошкових частинок гетерогенність потоку зрос-
тає. Найбільш високу швидкість в імпульсному потоці має
3
гомогенна частина потоку плазми – (10…30)·10 м/с. Вплива-
ючи на поверхню напилювання, вона готує її для подальшого
закріплення конденсованих частинок потоку, швидкість яких
може бути на порядок меншою. В аналогічних за конструкці-
єю установках отримують високотемпературну імпульсну
плазму. Цей спосіб в основному використовують для опромі-
нення поверхонь і додання їм аномальних властивостей. Як
низькотемпературна, так і високотемпературна імпульсна пла-
зма може бути використана для синтезування в покриттях різ-
них сполук.

2.4 ЕЛЕКТРОДУГОВА І ВИСОКОЧАСТОТНА ІНДУК-
ЦІЙНА МЕТАЛІЗАЦІЯ

2.4.1 Технологічні особливості електродугової металі-
зації
Дуга як джерело нагрівання розпорошуваного матеріалу

При дуговоговій металізації утворення потоку напилю-
ваних частинок відбувається внаслідок плавлення розпилюва-
ного матеріалу (дроту, стрижнів) високоамперною дугою. Для
диспергування розплавленого металу 1 (рисунок 2.30) викори-
стовують швидкісний потік стисненого газу 2. Горіння дуги
відбувається в специфічних умовах: площа активних плям на
215