Page 215 - 4687

- регулювання в широких межах якості напилюваних по-
криттів, у тому числі отримання особливо якісних при прове-
денні процесу із загальним захистом;
- високі значення КВМ [при напилюванні дротовим ма-
теріалів 0,7…0,85, порошкових 0,2…0,8];
- можливість комплексної механізації та автоматизації
процесу;
- широка доступність методу, достатня економічність і
невисока вартість найпростішого обладнання.
До недоліків методу слід віднести:
- невисокі значення коефіцієнта використання енергії
(при дротовому напилюванні η і = 0,02…0,18; порошковому η і
= 0,001…0,02);
- наявність пористості та інших видів несуцільностей
(2…15 %);
- порівняно невисока адгезійна і когезійна міцність по-
криття (максимальні значення становлять 80…100 МПа);
- високий рівень шуму при відкритому веденні процесу
(60…120 дБ).
У міру вдосконалення методу плазмового напилювання
кількість недоліків знижується. Перспективні, наприклад, роз-
робки напилювання з надзвуковим закінченням плазмового
струменя, що дозволяють формувати покриття переважно з
частинок без розплавлення, які перебувають у в'язкопластич-
ному стані. У порівнянні з радіальною найбільш ефективна
осьова подача розпорошуваного матеріалу в дугових плазмо-
вих розпилювачах.
Значний інтерес представляє плазмове напилювання з
використанням дводугових або трифазних плазмотронів. Ве-
ликі переваги обіцяє застосування ВЧ-плазмотронів. У цих
випадках отримують плазму, що не забруднена матеріалами
електродів, спрощується осьова подача розпорошуваного ма-
теріалу.

214