Page 209 - 4687

Малі заглиблення (l з < 1/2 d c) сприяють утворенню вели-
ких, слабо диспергованих крапель, зі збільшенням швидкості
подачі дроту величина заглиблення зростає (l з > 1/2 d c) і від-
повідно, формується потік більш дисперсних частинок.
Оптимальні швидкості подачі дроту при плазмовому на-
пилюванні складають для нейтральної дроту 10…25, а для
дроту-анода 30…70 мм/с. Для збільшення продуктивності
може бути використаний безпосередній підігрів дроту.
2.3.4 Параметри, що характеризують зовнішні умови
напилювання
Для плазмового напилювання оптимальні дистанції L за-
лежно від режиму роботи плазмотрона складають 50…300 мм.
Малі дистанції напилювання, близькі до довжини початкової
ділянки плазмового струменя (рисунок 2.14), не завжди забез-
печують прогрівання порошкових частинок і надання їм необ-
хідної швидкості, крім того, зростає небезпека неприпустимо-
го нагрівання напилюваного виробу. Зі збільшенням дистанції
на основній ділянці струменя різко падає температура і швид-
кість (рисунок 2.29, б), відповідно знижуються температура і
швидкість напилюваних частинок. Значення дистанції напи-
лювання найбільш важливі при веденні процесу з використан-
ням ламінарної плазми або низького вакууму. Істотно зростає
дистанція напилювання зі збільшенням потужності дуги.
Слід також враховувати і зміну складу газу при збіль-
шенні дистанції напилювання, поблизу поверхні формування
покриття газова фаза містить значну кількість повітря (рису-
нок 2.29, a).
Великий вплив на температуру в плямі напилювання має
швидкість переміщення розпилювача, зазвичай вона є в межах
0,05…1,0 м/с. Невисокі швидкості збільшують контактну тем-
пературу частинок, проте при цьому зростає небезпека пере-
гріву напилюваного виробу.

208