Page 197 - 4687

Рисунок 2.19 – Схема плазмового напилювання із загальним
захистом у камері (стрілками вказані переміщення розпилю-
вача і напилюваного виробу):1 - камера; 2 - плазмовий розпи-
лювач; 3 - відкачування камери перед напилюванням

Способи плазмового напилювання в камері перспектив-
ні, дозволяють одержувати покриття високої якості при по-
ліпшенні умов праці та без порушення екології.

2.3.2 Параметри режиму плазмового напилювання та
їх вплив на ефективність процесу

Параметри процесу повинні дозволяти регулювати в
широких межах такі термодинамічні властивості плазмового
струменя як ентальпія, температура і швидкість плазмового
струменя відповідальні за температуру та швидкість напилю-
ваних частинок і, відповідно, якість покриттів.
Досягається це вибором конструктивних параметрів пла-
змового розпилювача, які включають (рисунок 2.20) діаметр
сопла (d c); довжину каналу сопла (l c); профілювання каналу
сопла; заглиблення електрода в соплі (l з); довжину прив'язки
самовстановлюваної або фіксованої анодної плями дуги (l д);
характер і місце введення розпорошуваного матеріалу щодо

196