Page 41 - 4249

До параметрів технологічного процесу плазмового на-
пилення, які характеризують режим роботи плазмотрону і ви-
значають процес нагрівання розпилюваного матеріалу, є ента-
льпія, температура та швидкість плазмового струменя.
Установки для плазмового напилення можна класифіку-
вати за такими ознаками:
1) за способом отримання плазми установки з дуговими
плазмовими розпилювачами та високочастотними індукцій-
ними розпилювачами;
2) за способом захисту процесу обладнання з місцевим
та загальним захистом;
3) за рівнем тиску в камері розрізняють установки для
напилення при тиску в камерах, близьким до атсмоферного
(Р к=0,1 МПа); в низькому вакуумі (Р к=133 Па і вище;) при
підвищеному тиску (Р к>0,1 МПа);
4) за регенерацією газу з повним викидом плазмоутво-
рюючого газу в атмосферу і його регенерацією по замкненому
циклу.
У промисловості отримали розповсюдження установки
для плазмово-дугового напилення. Основним компонентом
обладнання для плазмового напилення є плазмотрон. При пла-
змовому порошковому напиленні використовують плазмотро-
ни з непрямою дугою, а при дротяному можуть використову-
ватись плазмотрони, як з прямою, так і непрямою дугою.
Найбільш поширені установки для плазмового напилен-
ня, які призначені для нанесення багатошарових двохкомпо-
нентних металокерамічних покриттів з порошків або дроту.
Вони можуть використовуватись як у складі напівавтоматів
для напилення так і у складі наявних на підприємстві засобах
механізації, які забезпечують надійний захист обслуговуючо-
го персоналу та навколишнього середовища від шуму, аерозо-
лів та інших шкідливостей, які супроводжують напилення.
Для організації нанесення багатошарових зносостійких,
корозійностійких, антифрикційних та інших покриттів на зов-
нішні поверхні деталей в умовах дрібносерійного та ремонт-
ного виробництва рекомендують використовувати напівавто-
мати камерного типу, які складаються з камери напилення,
плазмової установки, аспіраційної установки. На рисунку 7.1
показаний один із таких напівавтоматів 15В-Б.

39