Page 36 - 4609

газополуменевого, плазмово- шляхом конденсації на під-
го, детонаційного. Суть Г.н. кладці компонентів парової
полягає в отриманні покриття фази.
з нагрітих і прискорених за
допомогою високотемпера- Газофазне хімічне осідан-
турного газового струменя ня, хімічне осідання з парової
частинок напилюваного ма- фази, CVD-процес – метод
теріалу. При взаємодії цих нанесення покриттів шляхом
частинок з основою або на- конденсації на підкладці про-
пиленим матеріалом відбува- дуктів хімічних реакцій, що
ється їх з'єднання за допомо- проходять у газах, і (чи) шля-
гою зварювання, адгезії і ме- хом хімічної взаємодії між
ханічного зчеплення. газовою фазою і підкладкою.
Г.х.о. зазвичай виконують у
попередньо вакуумованих
камерах, заповнених газови-
ми реагентами. В якості
останніх, як правило, викори-
стовують галогеніди, карбо-
ніли, металоорганічні сполу-
ки, з однієї сторони, і водень,
аміак, вуглець, оксид вугле-
цю та ін. – з другої. Найчас-
тіше на практиці використо-
вують відновленням воднем
галогеновмісних сполук з
наступною реакцією з інши-
ми компонентами газових
сумішей при високих темпе-
Загальна схема процесу газотерміч- ратурах, які коливаються у
ного напилювання: 1 – генератор широкому діапазоні в залеж-
напилюваних частинок; 2 – потік ності від конкретної сполуки.
часинок; 3 - напилене покриття; 4 - Для проведення піролізу під-
підкаладка
кладку нагрівають до необ-
Газотермічне покриття – хідної температури, газоподі-
покриття, отримане газотер- бна робоча сполука розклада-
мічним напилюванням. ється, і його нелетучі компо-
ненти конденсуються на ній.
Газофазове осідання – ме- Розрізняють низько- та висо-
тод нанесення покриттів
котемпературні процеси роз-

34